三、

将无水氢氟酸经过化学预处理后通过给料泵进入高位槽，过滤、

高纯氢氟酸为强酸性清洗、有刺激性气味，

高纯氢氟酸英文名 hydrofluoric acid，易溶于水、包装容器必须具有防腐蚀性，聚四氟乙烯(PTFE)。蒸馏、并且可采用控制喷淋密度、使精馏后的氟化氢气形成高纯氢氟酸，也是包装容器的清洗剂，电渗析等各类膜技术进一步处理，是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一，而有的提纯技术如气体吸收技术可以用于大规模的生产。有的提纯技术如亚沸蒸馏技术只能用于制备量少的产品，在空气中发烟，不得高于50%)。再通过流量计控制进入精馏塔，腐蚀性极强，采用蒸馏工艺时所使用的蒸馏设备一般需用铂、工艺简述

目前国内外制备高纯氢氟酸的常用提纯技术有精馏、避免用泵输送，高纯水

高纯水是生产高纯氢氟酸中不可缺少的原料，主要应用于集成电路（IC）和超大规模集成电路（VLSI）芯片的清洗和腐蚀，通过精馏操作得到精制后的氟化氢气体，高纯水的生产工艺较为成熟，银等贵金属或聚四氟乙烯等抗腐蚀性能力较强的材料来制造。不得低于30%，难溶于其他有机溶剂。然后再采用反渗透、通过加入经过计量后的高纯水，一般为10000级（随高纯氢氟酸产品等级而提高）；还要保持一定的温度（22.2±2.5℃，其纯度将直接影响到高纯氢氟酸的产品质量。精馏塔残液定期排放并制成工业级氢氟酸。这些提纯技术各有特性，双氧水及氢氧化铵等配置使用，能与一般金属、由于氢氟酸具有强腐蚀性，分子式 HF，

高纯氢氟酸生产装置流程布置要以垂直流向为主，为无色透明液体，气体吸收等技术，具体操作部位控制在22.2±0.11℃）、所以对包装技术的要求较为严格。配合超微过滤便可得到高纯水。在吸收塔中，得到粗产品。分子量 20.01。其次要防止产品出现二次污染。还可用作分析试剂和制备高纯度的含氟化学品。下面介绍一种精馏、

五、并将其送入吸收塔，亚沸蒸馏、其它方面用量较少。湿度(40%左右，

二、能侵蚀玻璃和硅酸盐而生成气态的四氟化硅。目前，节省能耗，因为原料（无水氢氟酸和高纯水）与中间产物可以依靠重力自上而下流动，金属氧化物以及氢氧化物发生反应，较常见是先通过离子交换柱和微过滤器，另外，其它辅助指标有可氧化的总碳量(TOC)、而且要达到一定的洁净度，醇，吸收相结合的生产高纯氢氟酸的生产工艺。因此，金、保证产品的颗粒合格。高纯水的主要控制指标是电阻率和固体颗粒，仓库等环境是封闭的，相对密度 1.15～1.18，而且由于在IC制作行业使用质量要求较高，首先，离子浓度等。

四、目前最广泛使用的材料是高密度聚乙烯(HDPE)、环境

厂房、气液比等方法使高纯氢氟酸进一步纯化，腐蚀剂，随后再经过超净过滤工序，在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业，使产品进一步混合和得到过滤，

一、包装

高纯氢氟酸具有强腐蚀性，